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1100℃大口徑真空管式爐
型號：
T12152C
用途：
此設備是專門為大工件或大批量熱處理生產而研發制造的。
規格：
Φ152*1650mm
特點：
152mm超大管徑，1100mm超長溫區。
1100℃高溫高壓管式爐
此款爐管采用無縫鎳基合金管,此款設備專為高溫高壓實驗設計，最高壓力高達21MPa，最高溫度可達1100℃，并可通入多種氧化或惰性保護氣體。對于高壓制備新材料和作為小型熱等靜壓處理合金樣品，這是一款理想的高溫管式爐。
1200℃ 12L箱式爐
型號：
M1220
用途：
廣泛用于粉末冶金行業、科研院所以及義齒加工行業的中高溫燒結、烘烤、退火、氧化鋯盤預燒結等。
規格：
200*200*300
特點：
爐膛容積大，實驗室與生產企業均可使用.
1200℃ 4.5L箱式爐
型號：
M1215
用途：
1200℃以下常規環境下燒結與退火，也可進行灰分燒結實驗
規格：
100～1200℃
特點：
溫度精準，經濟實惠
1200℃ mini型真空管式爐
型號：
T1250S
用途：
物理/化學氣象沉積（CVD/PVD）實驗以及真空/氣氛保護燒結、納米材料制備等。
規格：
Φ50*600mm
特點：
較小的爐膛不僅使得溫度控制更加精準而且具有好的穩定性
1200℃ mini混合爐
型號：H1210 它有一個100*100*100mm的小爐膛，因而溫度控制更加容易，溫場熱分布更均勻。
它既可以作為真空氣氛爐使用，也可以作為普通馬弗爐使用。拿出管子放入一個隔熱堵頭就變為一個馬弗爐。
1200℃ mini箱式爐
型號：
M1210
用途：
廣泛用于實驗室用燒結與退火、義齒加工行業的烘烤、鋯盤預燒結等。
規格：
爐膛尺寸為100*100*100mm
特點：
結構小巧、重量輕、便于實驗室使用。
1200℃ 井式氣氛爐
此款井式氣氛爐集控制系統與爐膛為一體。其爐膛保溫材料采用整體真空吸附成型，程控鑲嵌進口電阻絲，超大口徑的石英爐腔和真空水冷密封法蘭系統，可以在流動氣氛和真空狀態下快速加熱樣品，能很好的替代真空箱式爐。爐子上部配有泄壓閥，很好了保證在通氣氛使用情況下的安全。
1200℃三溫區管式爐
型號：
T1280C
用途：
某些熱處理實驗有時需要一個或多個溫度梯度，比如CVD等鍍膜試驗。如此就會用到多溫區的管式爐。
規格：
Φ60*1400mm
特點：
三個溫區分別控制，互不影響。
1200℃單溫區真空管式爐
型號：
T1260A
用途：
真空或氣氛保護狀態下燒結，CVD薄膜實驗等
規格：
Φ50*1000，Φ60*1000，Φ80*1000，Φ100*1000
特點：
它集控制系統與爐膛為一體，外型精簡大方，爐膛可打開。
1200℃雙溫區管式爐
1200℃雙溫區管式爐，其最高溫度可達到1200℃，并可通過調節兩個溫區的控溫程序使爐管內溫場形成一溫度梯度。兩個溫區分別由兩個獨立的溫控系統來控制，而且都為PID30段程序化控溫。此系列管式爐可以用CVD方法來生長納米材料和制備各種薄膜。
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