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1100℃大口徑真空管式爐
型號：
T12152C
用途：
此設備是專門為大工件或大批量熱處理生產而研發制造的。
規格：
Φ152*1650mm
特點：
152mm超大管徑，1100mm超長溫區。
1100℃高溫高壓管式爐
此款爐管采用無縫鎳基合金管,此款設備專為高溫高壓實驗設計，最高壓力高達21MPa，最高溫度可達1100℃，并可通入多種氧化或惰性保護氣體。對于高壓制備新材料和作為小型熱等靜壓處理合金樣品，這是一款理想的高溫管式爐。
1200℃ mini型真空管式爐
型號：
T1250S
用途：
物理/化學氣象沉積（CVD/PVD）實驗以及真空/氣氛保護燒結、納米材料制備等。
規格：
Φ50*600mm
特點：
較小的爐膛不僅使得溫度控制更加精準而且具有好的穩定性
1200℃三溫區管式爐
型號：
T1280C
用途：
某些熱處理實驗有時需要一個或多個溫度梯度，比如CVD等鍍膜試驗。如此就會用到多溫區的管式爐。
規格：
Φ60*1400mm
特點：
三個溫區分別控制，互不影響。
1200℃單溫區真空管式爐
型號：
T1260A
用途：
真空或氣氛保護狀態下燒結，CVD薄膜實驗等
規格：
Φ50*1000，Φ60*1000，Φ80*1000，Φ100*1000
特點：
它集控制系統與爐膛為一體，外型精簡大方，爐膛可打開。
1200℃雙溫區管式爐
1200℃雙溫區管式爐，其最高溫度可達到1200℃，并可通過調節兩個溫區的控溫程序使爐管內溫場形成一溫度梯度。兩個溫區分別由兩個獨立的溫控系統來控制，而且都為PID30段程序化控溫。此系列管式爐可以用CVD方法來生長納米材料和制備各種薄膜。
1200℃旋轉管式爐
型號：
R1260A
用途：
主要用于電池正負極材料，無強酸堿性粉體材料，顆粒狀物料的實驗室煅燒及干燥。
規格：
Φ60*1000
特點：
爐管可360度旋轉，有助于材料燒結更均勻。
1500℃加長單溫區管式爐
型號：
CHY-T1500-80ILT
用途：
1500℃以下真空或氣氛狀態下一次燒結多種樣品
特點：
溫區延長至480mm，可一次性燒結更多量樣品
1500℃單溫區真空管式爐
型號：
T1560A
用途：
1500溫度范圍內真空或氣氛環境下燒結、還原、CVD鍍膜等實驗
1500℃小型開啟式管式爐
型號：T1550S-O 特點：爐膛可開啟，方便取放爐管，體積小巧，在實驗室不占地方，是一款性價比高的高溫管式爐
1500℃小型管式爐
型號：
T1550S
用途：
1500℃以下真空或氣氛狀態下燒結實驗
規格：
剛玉管50*700mm
特點：
體積小，價格低，操作簡便
1500雙溫區管式爐
型號：
T1560B
用途：
適用于CVD鍍膜實驗中用到多個溫度梯度；多個溫區設定同一溫度點可作為加長的單溫區使用
規格：
100～1500℃
特點：
溫區加長，可實現兩個溫度梯度
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